20余项自主知识产权构建核心技术壁垒
全流程自主可控，深度适配微纳打印工艺
独立开发打印控制系统，实时监控打印过程，精确控制曝光参数与运动轨迹，全流程数据可追溯。切片环节采用市面上常用的切片软件，兼容主流格式与工艺流程。
微纳尺度光固化全工艺链覆盖
| 工艺项目 | 技术指标 | 技术特点 |
|---|---|---|
| 打印精度 | 最高可达1μm | 微米级超高精度，自研光学矫正 |
| 分层厚度 | 微米级可调 | 精细分层控制，适配不同精度需求 |
| 光源系统 | 面投影紫外光固化 | 面投影成型，效率高、精度好 |
| 材料体系 | 多种类光敏树脂 | 科研级/工业级/生物相容性材料 |
| 软件系统 | 自研控制软件 | 兼容主流切片软件，打印过程全流程自主可控 |
微米级精度，科研级品质
从光学到材料到软件的完整技术链
自研光刻镜头与光学矫正
高精度光机与运动控制
打印控制自研，切片采用市面常用软件
光敏树脂与工艺参数